Файл:Semiconductor fabrication with and without CMP RU.svg
Из Википедии, бесплатной энциклопедии
![Файл:Semiconductor fabrication with and without CMP RU.svg](http://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/1/10/Semiconductor_fabrication_with_and_without_CMP_RU.svg/800px-Semiconductor_fabrication_with_and_without_CMP_RU.svg.png)
Исходный файл (SVG-файл, номинально 1024 × 568 пкс, размер файла: 31 КБ)
История файла
Нажмите на дату/время, чтобы посмотреть файл, который был загружен в тот момент.
Дата/время | Миниатюра | Размеры | Участник | Примечание | |
---|---|---|---|---|---|
текущий | 03:29, 20 ноября 2010 | ![]() | 1024 × 568 (31 КБ) | A5b | {{Information |Description={{en|1=Comparison between semiconductor circuits manufactured with and without chemical-mechanical polishing (cross section}} {{ru|1=Сравнение срезов ru:СБИС, изготовленных без испол� |
03:27, 20 ноября 2010 | ![]() | 1024 × 568 (31 КБ) | A5b | {{Information |Description={{en|1=Comparison between semiconductor circuits manufactured with and without chemical-mechanical polishing (cross section}} {{ru|1=Сравнение срезов ru:СБИС, изготовленных без испол� | |
03:19, 20 ноября 2010 | ![]() | 1024 × 568 (32 КБ) | A5b | {{Information |Description={{en|1=Comparison between semiconductor circuits manufactured with and without chemical-mechanical polishing (cross section}} {{ru|1=Сравнение срезов ru:СБИС, изготовленных без испол� |
Использование файла
Следующая страница использует этот файл: